等離子體處理裝置的制作方法

本公開涉及一種等離子體處理裝置。

背景技術：

1、已知有一種等離子體處理裝置，其使用配置在真空容器內的天線在所述真空容器內產生感應耦合性的等離子體。等離子體處理裝置根據其類別，對被處理物實施使用所產生的等離子體的規定的等離子體處理。

2、另外，在等離子體處理裝置中，已知有一種在真空容器內設置多個天線來對被處理物進行等離子體處理的裝置。

3、現有技術文獻

4、專利文獻

5、專利文獻1：日本專利特開2002-69653號公報

技術實現思路

1、發明所要解決的問題

2、在等離子體處理裝置中，關于在使用多個天線使等離子體穩定的同時對處理室的內部的被處理物進行所需的等離子體處理的情況，有改善的余地。

3、本公開是鑒于所述問題點而成，其目的在于提供一種等離子體處理裝置，其可在使用多個天線使等離子體穩定的同時對處理室的內部的被處理物進行所需的等離子體處理。

4、解決問題的技術手段

5、為了解決所述課題，本公開的一方面的等離子體處理裝置包括：處理室；多個天線，生成用于在所述處理室的內部產生等離子體的磁場；至少兩個電源，向所述多個天線供給用于生成所述磁場的高頻電流；以及控制部，所述電源是在周期中的所需的占空比的第一期間內供給產生所述等離子體的高頻電流，以按所需的所述周期間歇地產生所述等離子體的電源，所述控制部對所述至少兩個電源的所述占空比個別地進行控制。

6、發明的效果

7、通過本公開的一實施例，可提供一種等離子體處理裝置，其可在使用多個天線使等離子體穩定的同時對處理室的內部的被處理物進行所需的等離子體處理。

技術特征：

1.一種等離子體處理裝置，包括：

2.根據權利要求1所述的等離子體處理裝置，還包括多個等離子體發光監視器，所述多個等離子體發光監視器對在所述處理室的內部產生的等離子體的發光進行監視，

3.根據權利要求2所述的等離子體處理裝置，其中，所述多個天線沿著規定的排列方向排列，

4.根據權利要求1所述的等離子體處理裝置，其中，所述多個天線沿著規定的排列方向排列，

5.根據權利要求4所述的等離子體處理裝置，還包括多個等離子體發光監視器，所述多個等離子體發光監視器對在所述處理室的內部產生的等離子體的發光進行監視，

6.根據權利要求4或5所述的等離子體處理裝置，還包括多個溫度探測部，所述多個溫度探測部對所述被處理物的溫度進行探測，

技術總結
本發明提供一種等離子體處理裝置，其可在使用多個天線使等離子體穩定的同時對處理室的內部的被處理物進行所需的等離子體處理。等離子體處理裝置(1)包括：殼體(2)；多個天線(7)，生成用于在殼體(2)的內部產生等離子體的磁場；至少兩個電源(8)，向多個天線(7)的各者供給用于分別使其生成磁場的高頻電流；以及控制部(C)。電源(8)在周期中的所需的占空比的第一期間內供給產生等離子體的高頻電流，以按所需的周期間歇地產生等離子體。控制部(C)對至少兩個電源(8)的占空比個別地進行控制。

技術研發人員：東大介,酒井敏彥,藤原將喜
受保護的技術使用者：日新電機株式會社
技術研發日：
技術公布日：2025/8/11