本發明屬于化學鎳設備，具體涉及一種三維搖擺的半導體零部件化學鎳裝置。
背景技術：
1、半導體制造設備零部件，如腔體部件、傳輸部件、噴嘴、基座等，通常工作在高溫、強腐蝕性氣體或等離子體環境中，因此對表面涂層的性能要求極為嚴格。由于半導體制造環境對潔凈度、耐腐蝕性及耐磨損性要求極高，關鍵零部件通常需要進行表面處理以提升其性能?；瘜W鍍鎳是一種無需外加電源的自催化還原反應，通過將金屬基材浸入含有鎳鹽、還原劑及穩定劑的鍍液中，使鎳均勻沉積在基材表面。與傳統電鍍相比，化學鍍鎳可以在形狀復雜的零部件表面形成均勻的鍍層，且不受基材導電性影響。
2、在化學鍍鎳過程中，氣泡的產生是一個常見問題，尤其是在形狀復雜的半導體設備零部件表面，氣泡可能會滯留在局部區域，導致鍍層缺陷，如針孔、鍍層不均勻或脫落。如果氣泡不能及時逸出，會在局部區域形成鍍層空缺，影響涂層的連續性。適當移動零部件可以改變鍍液的流動狀態，使氣泡更容易從表面脫離，避免氣泡屏蔽鍍液與基材的接觸。連續輕微晃動或緩慢旋轉工件可防止氣泡在特定區域聚集，確保鍍液均勻覆蓋整個表面。同時，零部件移動能夠促進鍍液的流動，使新鮮的鍍液不斷補充到反應界面，提高化學反應效率。
3、中國發明專利cn?216856492?u3公開了一種用于電路板化學沉鎳鈀金生產線的震蕩裝置，可使印刷電路板在藥缸中浸泡的過程中進行震蕩晃動，保證震蕩時長，可提高印刷電路板的化學處理速度與程度。但這種生產線的結構不適用于單臺設備的作業，同時動作相對簡單，無法實現三個方向維度上的復合移動，除泡效果不好。
技術實現思路
1、針對現有技術所存在的上述不足，本發明要解決的問題是現有的化學鎳設備，對高精密、復雜形狀的半導體零部件，無法有效去除表面氣泡，缺陷可能會降低零部件的耐腐蝕性、耐磨性，并影響其在半導體制造環境中的穩定性。本發明提供一種三維搖擺的半導體零部件化學鎳裝置，采用3d搖擺晃動，可防止氣泡在特定區域聚集，確保鍍液均勻覆蓋半導體零部件整個表面。
2、為了實現上述目的，本發明公開一種三維搖擺的半導體零部件化學鎳裝置，包括外槽、內槽、支架、驅動機構、升降機構、橫移機構、縱移機構、搖擺架、工件懸吊架，
3、所述內槽安裝在外槽內，工件在內槽內進行化學鎳反應，外槽外圍安裝有支架，
4、所述驅動機構包括驅動電機、驅動偏心輪、調節桿、聯動搖桿、驅動軸，驅動軸上安裝有驅動搖桿和聯動搖桿；驅動電機帶動驅動偏心輪轉動，驅動偏心輪通過調節桿、驅動搖桿，帶動驅動軸做一定角度范圍的往復轉動；
5、驅動軸帶動聯動搖桿，驅動軸的聯動搖桿與從動軸的聯動搖桿之間安裝有聯動桿，驅動軸、從動軸同步轉動，
6、所述升降機構、橫移機構、縱移機構有兩組，對稱設置在外側兩側，分別由驅動軸、從動軸驅動，同步運動；搖擺架位于外側上部，
7、所述升降機構包括吊帶夾板組件、升降桿、升降導向組件、豎向驅動架、托輪組件，所述吊帶夾板組件包括固連在驅動軸或從動軸上的吊帶、鎖緊在吊帶上的夾板、連接板，所述連接板上固定連接有升降桿，所述升降桿豎向設置，升降桿插接在升降導向組件內，所述升降桿上部連接有豎向驅動架，豎向驅動架上安裝有托輪組件，所述托輪組件設置有上輥輪和下輥輪，上輥輪和下輥輪套接在搖擺架上，驅動軸轉動時通過升降桿帶動搖擺架上下移動，
8、所述橫移機構包括聯動偏心輪、聯動撥桿、橫向凸輪槽板，所述聯動偏心輪安裝在驅動軸或從動軸端部，聯動撥桿底部設置有矩形框，聯動偏心輪上的凸輪隨動器插接在所述矩形框內，聯動偏心輪轉動和回轉時帶動聯動撥桿上升和下降；聯動撥桿頂部安裝有凸輪隨動器，凸輪隨動器的凸輪插接在橫向凸輪槽板的斜向的條形槽內，橫向凸輪槽板固連在搖擺架上，聯動撥桿升降時帶動搖擺架左右移動，
9、所述縱移機構包括縱向凸輪槽板、v座固定板、縱移導軌、導軌支架，豎向驅動架連接有縱向凸輪槽板，縱向凸輪槽板水平設置，縱向凸輪槽板內設置有斜向的條形槽，v座固定板下部連接有凸輪隨動器，凸輪隨動器插接在縱向凸輪槽板的條形槽內，導軌支架有兩個，對稱固定連接在搖擺架上；縱移導軌有兩個，安裝在v座固定板兩側，導軌支架上安裝有凸輪且凸輪與縱移導軌配合；搖擺架相對豎向驅動架移動時，縱向凸輪槽板驅動v座固定板相對導軌支架縱向移動，
10、v座固定板上安裝有v型座，兩側v型座之間活動連接有工件懸吊架，工件懸吊架下吊裝待反應的工件。
11、根據本發明又一實施例或前述任一實施例的化學鎳裝置，其中，所述支架包括左側支撐架、右側支撐架、連接桿，左側支撐架、右側支撐架分別支撐驅動部分和從動部分的的橫移機構、縱移機構、升降機構，連接桿有四根以上，連接桿連接左側支撐架、右側支撐架。
12、根據本發明又一實施例或前述任一實施例的化學鎳裝置，其中，所述驅動電機與驅動偏心輪之間安裝有減速箱，驅動電機安裝在支架上。
13、根據本發明又一實施例或前述任一實施例的化學鎳裝置，其中，每組升降機構包括兩個吊帶夾板組件、升降桿、升降導向組件，對稱設置，兩個升降桿頂部連接豎向驅動架。
14、根據本發明又一實施例或前述任一實施例的化學鎳裝置，其中，所述搖擺架為矩形框體，圍繞在內槽外側。
15、根據本發明又一實施例或前述任一實施例的化學鎳裝置，其中，所述升降桿升降截面為菱形，導向組件包括兩塊固定板，其中一塊固定板安裝在支架上，兩塊固定板之間插接有兩個以上導向輪，所述導向輪中部設置有v型槽，所述升降桿嵌入所述v型槽。
16、根據本發明又一實施例或前述任一實施例的化學鎳裝置，其中，所述聯動撥桿側面設置有導軌，導軌安裝在豎向柱上，聯動撥桿側面通過滑塊與導軌配合。
17、根據本發明又一實施例或前述任一實施例的化學鎳裝置，其中，所述升降桿上升時，聯動撥桿下降；升降桿下降時，聯動撥桿上升；聯動撥桿的凸輪隨動器對橫向凸輪槽板施加反向力，平衡搖擺架的升降幅度，提高穩定性。
18、根據本發明又一實施例或前述任一實施例的化學鎳裝置，其中，所述豎向驅動架通過鏤空板連接縱向凸輪槽板，所述縱向凸輪槽板、橫向凸輪槽板都設置有鏤空孔進行減重。
19、根據本發明又一實施例或前述任一實施例的化學鎳裝置，其中，所述v座固定板下部安裝有兩組凸輪隨動器，縱向凸輪槽板上設置有兩個斜向條形槽與所述凸輪隨動器配合。
20、根據本發明又一實施例或前述任一實施例的化學鎳裝置，其中，所述v型座有四個，兩兩對稱設置有工件懸吊架兩側的v座固定板上。
21、本發明的有益效果：
22、本發明所述的三維搖擺的半導體零部件化學鎳裝置，通過升降機構、橫移機構、縱移機構，實現工件懸吊架的三維搖擺，使半導體零部件更為立體移動，改變鍍液的流動狀態，使氣泡更容易從表面脫離，避免氣泡屏蔽鍍液與基材的接觸。還能促進鍍液的流動，使新鮮的鍍液不斷補充到反應界面，提高化學反應效率。從而提高半導體零部件化學鍍鎳的質量，使零部件在高要求的半導體制造環境中具有優異的耐腐蝕性、耐磨性和穩定性。