1.一種濾光片基板，其特征在于，包括：
2.如權利要求1所述的濾光片基板，其特征在于，所述支撐柱結構頂部表面為平整表面；所述抗磨層位于支撐柱結構頂部表面。
3.如權利要求2所述的濾光片基板，其特征在于，所述抗磨層具有第一高度h，所述支撐柱結構和抗磨層具有總的第二高度h，第一高度h與第二高度h的比值h/h大于10％。
4.如權利要求1所述的濾光片基板，其特征在于，所述支撐柱結構頂部表面為凹陷表面，所述支撐柱結構頂部具有凹槽；所述抗磨層位于所述支撐柱結構頂部的凹槽內。
5.如權利要求4所述的濾光片基板，其特征在于，所述凹槽具有第一深度d，所述支撐柱結構和抗磨層具有總的第二高度h，第一深度d與第二高度h的比值d/h大于等于2％且小于等于6％。
6.如權利要求1所述的濾光片基板，其特征在于，所述抗磨層的材料的鉛筆硬度大于或等于3h。
7.如權利要求6所述的濾光片基板，其特征在于，所述抗磨層的材料包括絕緣材料，所述絕緣材料包括：有機材料、無機材料或復合材料，所述有機材料包括亞克力或聚酰亞胺；所述無機材料包括硅氧化物或金屬氧化物，所述硅氧化物包括氧化硅，所述金屬氧化物包括氧化銦錫；所述復合材料包括有機材料和無機材料的復合。
8.如權利要求1所述的濾光片基板，其特征在于，所述支撐柱結構還包括第二支撐柱，一個所述第一支撐柱或第二支撐柱位于一個遮光區上，所述第一支撐柱的高度大于所述第二支撐柱的高度，所述第一支撐柱在基板上分布的密度小于所述第二支撐柱在基板上分布的密度。
9.如權利要求1所述的濾光片基板，其特征在于，所述基板包括多個像素區，每個所述像素區包括多個所述透光區；所述遮光區位于相鄰透光區之間；
10.如權利要求1所述的濾光片基板，其特征在于，還包括：位于遮光層上的平坦層，所述支撐柱結構位于遮光層上方的平坦層上。
11.一種濾光片基板的形成方法，其特征在于，包括：
12.如權利要求11所述的濾光片基板的形成方法，其特征在于，所述抗磨層的形成方法包括：在支撐柱結構頂部表面形成抗磨材料層；對所述抗磨材料層進行固化處理，在支撐柱結構頂部表面形成抗磨層。
13.如權利要求12所述的濾光片基板的形成方法，其特征在于，形成抗磨材料層的工藝包括涂布工藝；對所述抗磨材料層進行固化處理的工藝包括熱固化或uv固化。
14.如權利要求11所述的濾光片基板的形成方法，其特征在于，所述抗磨層的形成方法包括：在基板上形成犧牲層，所述犧牲層暴露出支撐柱結構頂部表面；在支撐柱結構頂部表面形成抗磨層；形成抗磨層之后，去除所述犧牲層。
15.如權利要求11所述的濾光片基板的形成方法，其特征在于，所述支撐柱結構頂部表面為平整表面，所述抗磨層位于支撐柱結構頂部表面；所述支撐柱結構的形成方法包括：在基板上形成支撐柱材料層；在支撐柱材料層上形成圖形化的掩膜層，所述圖形化的掩膜層暴露出透光區上的支撐柱材料層表面；以所述圖形化的掩膜層為掩膜去除透光區上的支撐柱材料層，在遮光區上形成支撐柱結構。
16.如權利要求11所述的濾光片基板的形成方法，其特征在于，所述支撐柱結構頂部表面為凹陷表面，所述支撐柱結構頂部具有凹槽；所述抗磨層位于所述支撐柱結構頂部的凹槽內；所述支撐柱結構的形成方法包括：在基板上形成支撐柱材料層；在支撐柱材料層上形成第一掩膜層，所述第一掩膜層暴露出遮光區上的支撐柱材料層表面；采用第一掩膜層為掩膜對所述支撐柱材料層進行刻蝕，在遮光區上形成支撐柱結構，所述支撐柱結構頂部具有凹槽。
17.如權利要求11所述的濾光片基板的形成方法，其特征在于，所述支撐柱結構還包括第二支撐柱，一個所述第一支撐柱或第二支撐柱位于一個遮光區上，所述第一支撐柱的高度大于所述第二支撐柱的高度，所述第一支撐柱在基板上分布的密度小于所述第二支撐柱在基板上分布的密度；所述第一支撐柱頂部具有第一凹槽，所述第二支撐柱頂部具有第二凹槽；所述支撐柱結構的形成方法包括：在基板上形成支撐柱材料層；在支撐柱材料層上形成光刻膠層；采用半色調掩膜版對所述光刻膠層進行曝光，所述半色調掩膜版對應第一支撐柱區域的透過率為100％，所述半色調掩膜版對應第二支撐柱區域的透過率為大于或等于20％且小于或等于25％；對曝光后的光刻膠層進行顯影，形成具有第一掩膜槽和第二掩膜槽的第二掩膜層，所述第一掩膜槽暴露出第二支撐柱區域的支撐柱材料層表面，所述第二掩膜槽的底部位于第一支撐柱區域的第二掩膜層內，所述第二掩膜槽的深度小于所述第一掩膜槽的深度；以所述第二掩膜層為掩膜對所述支撐柱材料層進行刻蝕，在遮光區上形成支撐柱結構，所述第一支撐柱頂部具有第一凹槽，所述第二支撐柱頂部具有第二凹槽。
18.如權利要求11所述的濾光片基板的形成方法，其特征在于，在遮光層上形成支撐柱結構之前，還包括：在濾光結構上形成平坦層，所述支撐柱結構位于遮光層上方的平坦層上。
19.一種液晶顯示器，其特征在于，包括：
20.一種液晶顯示器的形成方法，其特征在于，包括：