本申請實施例涉及光伏，具體而言，涉及一種載舟及加工設(shè)備。
背景技術(shù)：
1、半導(dǎo)體或光伏材料廣泛應(yīng)用于電子、新能源等行業(yè)，半導(dǎo)體和光伏材料通常都需要經(jīng)過化學(xué)處理才能夠應(yīng)用到產(chǎn)品上。化學(xué)氣相沉積（chemical?vapor?deposition，cvd）技術(shù)是其中的一種處理方式。
2、cvd技術(shù)目前已經(jīng)廣泛用于半導(dǎo)體或光伏材料加工。常見的cvd加工設(shè)備有等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積（plasma?enhanced?chemical?vapor?deposition，pecvd）、低壓化學(xué)氣相沉積（low?pressure?chemical?vapor?deposition，lpcvd）、常壓化學(xué)氣相沉積（atmospheric?pressure?chemical?vapor?deposition，apcvd）等。目前行業(yè)內(nèi)已有不少相關(guān)的設(shè)備，可以針對具體的加工需求來選擇相應(yīng)的設(shè)備進(jìn)行加工。半導(dǎo)體或光伏材料的pecvd加工，通常使用電源連接到電極對氣體放電產(chǎn)生等離子體。
3、然而，相關(guān)技術(shù)中，pecvd所沉積的硅膜等材料具有一定的導(dǎo)電性，當(dāng)這些沉積的膜寄生在電極板的絕緣材料上時會導(dǎo)致漏電或寄生放電，導(dǎo)致能量的浪費(fèi)損失、膜層質(zhì)量下降、放電不穩(wěn)定，寄生放電還可能損壞設(shè)備電路或電子元器件。
技術(shù)實現(xiàn)思路
1、鑒于此，本申請實施例提供一種載舟及加工設(shè)備，以解決傳統(tǒng)的pecvd設(shè)備中存在的寄生沉積而導(dǎo)致漏電或短路的問題。
2、本申請第一方面提供一種載舟。該載舟包括多個激勵電極板、多個接地電極板、兩個接地側(cè)板以及多個絕緣結(jié)構(gòu)。多個激勵電極板用于與激勵電源連接。沿第一方向上，每個接地電極板與一個激勵電極板交替且間隔排布。每相鄰的激勵電極板和接地電極之間形成等離子體區(qū)。兩個接地側(cè)板分別電連接于多個接地電極板的沿第二方向上的相對兩側(cè)。第二方向與第一方向交叉。每個激勵電極板的相對兩端分別通過一個絕緣結(jié)構(gòu)連接至對應(yīng)的接地側(cè)板，且每個絕緣結(jié)構(gòu)與接地側(cè)板的接觸點均位于等離子體區(qū)之外。
3、本申請實施例的載舟，通過將激勵電極板的相對兩端分別通過一個絕緣結(jié)構(gòu)連接至對應(yīng)的接地側(cè)板，使每個絕緣結(jié)構(gòu)與接地側(cè)板的接觸點均位于等離子體區(qū)之外，使得激勵電極板與外部非放電的接地導(dǎo)體（即接地側(cè)板）之間的直接連接點盡量遠(yuǎn)離直接放電等離子體區(qū)，從而有利于避免被等離子體寄生沉積上導(dǎo)致漏電或短路的薄膜。
4、一些實施例中，接地側(cè)板具有多個開孔，每個絕緣結(jié)構(gòu)包括絕緣包覆層、絕緣板以及絕緣連接件；絕緣包覆層包覆激勵電極板的端部；絕緣板位于接地側(cè)板的遠(yuǎn)離激勵電極板的一側(cè)，并與接地側(cè)板間隔設(shè)置；絕緣連接件穿過一個對應(yīng)的開孔，連接絕緣板與絕緣包覆層，且絕緣連接件在開孔處與接地側(cè)板間隔設(shè)置。
5、一些實施例中，每個絕緣結(jié)構(gòu)還包括絕緣墊件，絕緣墊件避讓開孔，并連接在接地側(cè)板和絕緣板之間，其中，所述絕緣墊件與所述接地側(cè)板接觸形成所述接觸點。
6、一些實施例中，絕緣連接件與絕緣包覆層之間以光滑的、可在熱膨脹過程中相對移動的方式進(jìn)行連接，并預(yù)留有相互滑移的空間。
7、一些實施例中，載舟還包括絕緣擋件，絕緣擋件位于接地側(cè)板與所述絕緣包覆層之間，并對應(yīng)至少一個開孔設(shè)置，絕緣擋件與絕緣連接件連接，每個絕緣擋件沿所述第二方向的正投影完全覆蓋對應(yīng)的所述開孔沿所述第二方向的正投影。
8、一些實施例中，每個絕緣擋件對應(yīng)一個開孔設(shè)置，每個絕緣擋件的形狀與對應(yīng)的開孔的形狀相同。
9、一些實施例中，每個接地側(cè)板對應(yīng)一個激勵電極板設(shè)有至少兩個開孔，每個絕緣擋件對應(yīng)一個激勵電極板設(shè)置，并遮擋接地側(cè)板對應(yīng)激勵電極板設(shè)置的所有開孔。
10、一些實施例中，每個絕緣擋件與接地側(cè)板之間具有間隙。
11、一些實施例中，間隙小于等于4mm。
12、本申請第二方面提供一種加工設(shè)備。該加工設(shè)備包括反應(yīng)腔體以及位于反應(yīng)腔體內(nèi)的載舟。該載舟為本申請第一方面的載舟。
13、本申請第二方面的加工設(shè)備至少具有與本申請第一方面的載舟相同的優(yōu)點，不再贅述。
1.一種載舟，其特征在于，包括：
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的載舟，其特征在于，所述接地側(cè)板具有多個開孔，每個所述絕緣結(jié)構(gòu)包括絕緣包覆層、絕緣板以及絕緣連接件；所述絕緣包覆層包覆所述激勵電極板的端部；所述絕緣板位于所述接地側(cè)板的遠(yuǎn)離所述激勵電極板的一側(cè)，并與所述接地側(cè)板間隔設(shè)置；所述絕緣連接件穿過一個對應(yīng)的所述開孔，連接所述絕緣板與所述絕緣包覆層，且所述絕緣連接件在所述開孔處與所述接地側(cè)板間隔設(shè)置。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的載舟，其特征在于，每個所述絕緣結(jié)構(gòu)還包括絕緣墊件，所述絕緣墊件避讓所述開孔，并連接在所述接地側(cè)板和所述絕緣板之間，其中，所述絕緣墊件與所述接地側(cè)板接觸形成所述接觸點。
4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的載舟，其特征在于，所述絕緣連接件與所述絕緣包覆層之間以光滑的、可在熱膨脹過程中相對移動的方式進(jìn)行連接，并預(yù)留有相互滑移的空間。
5.根據(jù)權(quán)利要求2所述的載舟，其特征在于，所述載舟還包括絕緣擋件，所述絕緣擋件位于所述接地側(cè)板與所述絕緣包覆層之間，并對應(yīng)至少一個所述開孔設(shè)置，所述絕緣擋件與所述絕緣連接件連接，每個所述絕緣擋件沿所述第二方向的正投影完全覆蓋對應(yīng)的所述開孔沿所述第二方向的正投影。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的載舟，其特征在于，每個所述絕緣擋件對應(yīng)一個所述開孔設(shè)置，每個所述絕緣擋件的形狀與對應(yīng)的所述開孔的形狀相同。
7.根據(jù)權(quán)利要求5所述的載舟，其特征在于，每個所述接地側(cè)板對應(yīng)一個所述激勵電極板設(shè)有至少兩個所述開孔，每個所述絕緣擋件對應(yīng)一個所述激勵電極板設(shè)置，并遮擋所述接地側(cè)板對應(yīng)所述激勵電極板設(shè)置的所有所述開孔。
8.根據(jù)權(quán)利要求5至7中任意一項所述的載舟，其特征在于，每個所述絕緣擋件與所述接地側(cè)板之間具有間隙。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的載舟，其特征在于，所述間隙小于等于4mm。
10.一種加工設(shè)備，其特征在于，包括：