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      刻繪控制方法和裝置、存儲(chǔ)介質(zhì)及電子裝置與流程

      文檔序號(hào):42833913發(fā)布日期:2025-08-26 18:44閱讀:10來源:國(guó)知局

      本申請(qǐng)涉及刻繪設(shè)備應(yīng)用領(lǐng)域,具體而言,涉及一種刻繪控制方法和裝置、存儲(chǔ)介質(zhì)及電子裝置。


      背景技術(shù):

      1、目前,刻繪設(shè)備可以通過刻刀對(duì)紙張或者其他介質(zhì)進(jìn)行刻繪(例如,刻繪、切割等),而刻繪路徑對(duì)于刻繪的效率和刻繪成功率具有較大影響。相關(guān)技術(shù)中,在進(jìn)行刻繪控制時(shí),通常是基于掃描到的刻繪圖案直接進(jìn)行圖案刻繪的。然而,上述刻繪控制方式存在刻繪成功率低的問題。


      技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路

      1、本申請(qǐng)實(shí)施例提供了一種刻繪控制方法和裝置、存儲(chǔ)介質(zhì)及電子裝置,以至少解決相關(guān)技術(shù)中的刻繪控制方式存在由于刻繪易出錯(cuò)導(dǎo)致的刻繪成功率低的問題。

      2、根據(jù)本申請(qǐng)實(shí)施例的一個(gè)方面,提供了一種刻繪控制方法,包括:確定目標(biāo)刻繪內(nèi)容的指定刻繪區(qū)域內(nèi)的待刻繪路徑,其中,目標(biāo)刻繪內(nèi)容是通過刻繪工具在刻繪介質(zhì)上所刻繪的內(nèi)容,指定刻繪區(qū)域?yàn)槟繕?biāo)刻繪內(nèi)容的至少部分刻繪區(qū)域;在指定刻繪區(qū)域內(nèi)的待刻繪路徑包含閉合形狀的一組刻繪圖案的情況下,控制刻繪工具在刻繪介質(zhì)上刻繪一組刻繪圖案中的每個(gè)刻繪圖案;在刻繪到每個(gè)刻繪圖案的刻繪終點(diǎn)的情況下,控制刻繪工具對(duì)每個(gè)刻繪圖案進(jìn)行閉合補(bǔ)償,以使刻繪出的每個(gè)刻繪圖案閉合。

      3、根據(jù)本申請(qǐng)實(shí)施例的另一個(gè)方面,還提供了一種刻繪控制裝置,包括:第一確定單元,用于確定目標(biāo)刻繪內(nèi)容的指定刻繪區(qū)域內(nèi)的待刻繪路徑,其中,目標(biāo)刻繪內(nèi)容是通過刻繪工具在刻繪介質(zhì)上所刻繪的內(nèi)容,指定刻繪區(qū)域?yàn)槟繕?biāo)刻繪內(nèi)容的至少部分刻繪區(qū)域;第一刻繪單元,用于在指定刻繪區(qū)域內(nèi)的待刻繪路徑包含閉合形狀的一組刻繪圖案的情況下,控制刻繪工具在刻繪介質(zhì)上刻繪一組刻繪圖案中的每個(gè)刻繪圖案;補(bǔ)償單元,用于在刻繪到每個(gè)刻繪圖案的刻繪終點(diǎn)的情況下,控制刻繪工具對(duì)每個(gè)刻繪圖案進(jìn)行閉合補(bǔ)償,以使刻繪出的每個(gè)刻繪圖案閉合。

      4、根據(jù)本申請(qǐng)實(shí)施例的又一方面,還提供了一種計(jì)算機(jī)可讀的存儲(chǔ)介質(zhì),該計(jì)算機(jī)可讀的存儲(chǔ)介質(zhì)中存儲(chǔ)有計(jì)算機(jī)程序,其中,該計(jì)算機(jī)程序被設(shè)置為運(yùn)行時(shí)執(zhí)行上述刻繪控制方法。

      5、根據(jù)本申請(qǐng)實(shí)施例的又一方面,還提供了一種電子裝置,包括存儲(chǔ)器、處理器及存儲(chǔ)在存儲(chǔ)器上并可在處理器上運(yùn)行的計(jì)算機(jī)程序,其中,上述處理器通過計(jì)算機(jī)程序執(zhí)行上述的刻繪控制方法。

      6、在本申請(qǐng)實(shí)施例中,通過在刻繪到刻繪圖案的刻繪終點(diǎn)時(shí)進(jìn)行閉合補(bǔ)償?shù)姆绞剑_定目標(biāo)刻繪內(nèi)容的指定刻繪區(qū)域內(nèi)的待刻繪路徑,其中,目標(biāo)刻繪內(nèi)容是通過刻繪工具在刻繪介質(zhì)上所刻繪的內(nèi)容,指定刻繪區(qū)域?yàn)槟繕?biāo)刻繪內(nèi)容的至少部分刻繪區(qū)域;在指定刻繪區(qū)域內(nèi)的待刻繪路徑包含閉合形狀的一組刻繪圖案的情況下,控制刻繪工具在刻繪介質(zhì)上刻繪一組刻繪圖案中的每個(gè)刻繪圖案;在刻繪到每個(gè)刻繪圖案的刻繪終點(diǎn)的情況下,控制刻繪工具對(duì)每個(gè)刻繪圖案進(jìn)行閉合補(bǔ)償,以使刻繪出的每個(gè)刻繪圖案閉合,由于針對(duì)每個(gè)刻繪圖案,控制刻繪工具進(jìn)行閉合補(bǔ)償,可以避免由于刻繪精準(zhǔn)度不夠?qū)е碌目汤L圖案不閉合的情況(對(duì)于圖案切割的方式,刻繪圖案不閉合會(huì)導(dǎo)致無法切斷刻繪材料),提高圖案刻繪的準(zhǔn)確性,達(dá)到提高刻繪成功率的技術(shù)效果,進(jìn)而解決了相關(guān)技術(shù)中的刻繪控制方式存在刻繪成功率低的問題。



      技術(shù)特征:

      1.一種刻繪控制方法,其特征在于,包括:

      2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,其特征在于,所述控制所述刻繪工具在所述刻繪介質(zhì)上刻繪所述一組刻繪圖案中的每個(gè)刻繪圖案,包括:

      3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的方法,其特征在于,在所述控制所述刻繪工具按照由內(nèi)向外的順序在所述刻繪介質(zhì)上依次刻繪所述關(guān)聯(lián)刻繪圖案組中的每個(gè)關(guān)聯(lián)刻繪圖案之前,所述方法還包括:

      4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的方法,其特征在于,在所述控制所述刻繪工具在所述刻繪介質(zhì)上刻繪所述一組刻繪圖案中的每個(gè)刻繪圖案之前,所述方法還包括:

      5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,其特征在于,所述每個(gè)刻繪圖案被分別劃分為一組切割路徑,所述每個(gè)刻繪圖案的每條切割路徑為所述刻繪工具進(jìn)行一次連續(xù)切割所切割的路徑;

      6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,其特征在于,所述每個(gè)刻繪圖案被分別劃分為一組切割路徑,所述每個(gè)刻繪圖案的每條切割路徑為所述刻繪工具進(jìn)行一次連續(xù)切割所切割的路徑;

      7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,其特征在于,所述每個(gè)刻繪圖案被分別劃分為一組切割路徑,所述每個(gè)刻繪圖案的每條切割路徑為所述刻繪工具進(jìn)行一次連續(xù)切割所切割的路徑;

      8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的方法,其特征在于,所述對(duì)所述每個(gè)刻繪圖案包含的一組線段進(jìn)行擬合處理,得到所述每個(gè)刻繪圖案的一組擬合線段,包括:

      9.根據(jù)權(quán)利要求1至8中任一項(xiàng)所述的方法,其特征在于,所述方法還包括:

      10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的方法,其特征在于,所述交替沿著指定掃描方向和所述指定掃描方向的反方向?qū)λ瞿繕?biāo)刻繪內(nèi)容進(jìn)行區(qū)域掃描,包括:

      11.一種刻繪控制裝置,其特征在于,包括:

      12.一種計(jì)算機(jī)可讀的存儲(chǔ)介質(zhì),其特征在于,所述計(jì)算機(jī)可讀的存儲(chǔ)介質(zhì)包括存儲(chǔ)的程序,其中,所述程序運(yùn)行時(shí)執(zhí)行權(quán)利要求1至10中任一項(xiàng)所述的方法。

      13.一種電子裝置,包括存儲(chǔ)器和處理器,其特征在于,所述存儲(chǔ)器中存儲(chǔ)有計(jì)算機(jī)程序,所述處理器被設(shè)置為通過所述計(jì)算機(jī)程序執(zhí)行權(quán)利要求1至10中任一項(xiàng)所述的方法。


      技術(shù)總結(jié)
      本申請(qǐng)公開了一種刻繪控制方法和裝置、存儲(chǔ)介質(zhì)及電子裝置,其中,上述方法包括:確定目標(biāo)刻繪內(nèi)容的指定刻繪區(qū)域內(nèi)的待刻繪路徑,其中,目標(biāo)刻繪內(nèi)容是通過刻繪工具在刻繪介質(zhì)上所刻繪的內(nèi)容,指定刻繪區(qū)域?yàn)槟繕?biāo)刻繪內(nèi)容的至少部分刻繪區(qū)域;在指定刻繪區(qū)域內(nèi)的待刻繪路徑包含閉合形狀的一組刻繪圖案的情況下,控制刻繪工具在刻繪介質(zhì)上刻繪一組刻繪圖案中的每個(gè)刻繪圖案;在刻繪到每個(gè)刻繪圖案的刻繪終點(diǎn)的情況下,控制刻繪工具對(duì)每個(gè)刻繪圖案進(jìn)行閉合補(bǔ)償,以使刻繪出的每個(gè)刻繪圖案閉合。通過本申請(qǐng),解決了相關(guān)技術(shù)中的刻繪控制方式存在由于刻繪易出錯(cuò)導(dǎo)致的刻繪成功率低的問題。

      技術(shù)研發(fā)人員:江德章,蔡?hào)|升,王曉偉,郭晉鵬
      受保護(hù)的技術(shù)使用者:珠海趣印科技有限公司
      技術(shù)研發(fā)日:
      技術(shù)公布日:2025/8/25
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