本發(fā)明涉及光伏產(chǎn)品領(lǐng)域，尤其涉及感光性組合物、制備方法及電池片制作方法、電池片。
背景技術(shù)：
1、一些亮面底材料(如玻璃、晶圓、玻璃等)上會(huì)涂覆感光性組合物以備后續(xù)加工處理，但是因?yàn)閭鹘y(tǒng)的感光性組合物吸光性能無(wú)法有效吸收大部分的光能量，從而在后續(xù)有采用光源進(jìn)行加工的工序時(shí)，光直達(dá)亮面底材導(dǎo)致反射而導(dǎo)致不容易控制成形后光組合物槽型，導(dǎo)致后續(xù)加工應(yīng)用的困難。
2、如在目前的光伏電池片制作過(guò)程中，如圖1所示，一般是在電池片的種子層a上涂覆感光性組合物以制成掩膜層b，然后對(duì)掩膜層b進(jìn)行曝光顯影以得到供電鍍的電鍍凹槽c。但是因?yàn)榉N子層為銅金屬層，從而在曝光時(shí)，雖然通過(guò)圖形化光罩d(部分鏤空而形成圖形)把掩膜層b不需要被曝光的部分遮住，曝光光源是對(duì)掩膜層沒(méi)被光罩遮住的部分進(jìn)行曝光，但是傳統(tǒng)用于制成掩膜層的感光性組合物不能有效地吸收曝光光源里的能量，故，未被吸收的光會(huì)直達(dá)銅金屬種子層而被銅金屬種子層反射(如圖1中細(xì)箭頭所示)，而反射是各個(gè)方向上的，導(dǎo)致掩膜層不需要被曝光部分(被光罩遮住的部分)的側(cè)面也與被反射而來(lái)的光接觸、反應(yīng)，也相當(dāng)于被進(jìn)行曝光，如此，造成掩膜層的過(guò)度曝，容易形成多余的掩膜結(jié)構(gòu)。而反射出來(lái)的光，越是靠近種子層，反射越強(qiáng)，越到上面越弱；故，掩膜層不需要被曝光的部分中，越是靠近種子層的地方越是與反射過(guò)來(lái)的光接觸、反應(yīng)的越多、越深，越是靠近掩膜層表面部分與反射過(guò)來(lái)的光反應(yīng)的越少。如此，經(jīng)過(guò)顯影后，沒(méi)被曝光的掩膜層與顯影液反應(yīng)被刻蝕掉而形成電鍍凹槽c，故，整體的電鍍凹槽形成為上寬下窄的倒梯形(如圖2所示)。而在這種倒梯形電鍍凹槽內(nèi)電鍍金屬柵線(xiàn)后，金屬柵線(xiàn)與電鍍凹槽的形狀一致，也為上寬下窄的倒梯形，而這種形狀會(huì)導(dǎo)致與種子層的接觸面積小，故附著力差，而后續(xù)還要將其他研磨層都去除去，故留下的金屬柵線(xiàn)很容易自種子層脫落，進(jìn)而導(dǎo)致整個(gè)電池片性能差。
技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路
1、本發(fā)明的目的在于克服上述缺點(diǎn)，提供一種感光性組合物、制備方法及電池片制作方法、電池片，所述感光性組合物內(nèi)包含光吸收劑，從而在曝光時(shí)，所述感光性組合物能很好地吸收光并與光反應(yīng)，降低種子層的光反射，從而顯影后制得的電鍍凹槽為上窄下寬的結(jié)構(gòu)，進(jìn)而電鍍后的金屬柵線(xiàn)也為相應(yīng)的上窄下寬的結(jié)構(gòu)，這種結(jié)構(gòu)的金屬柵線(xiàn)與種子層的附著力強(qiáng)，不易自種子層上脫離，從而大大提高了電池片的性能。
2、為實(shí)現(xiàn)上述目的，本發(fā)明所采用的技術(shù)方案是：
3、一種感光性組合物，包括光吸收劑。
4、按重量份數(shù)，所述感光性組合物包括：5～75份感光樹(shù)脂；0.1～10份光引發(fā)劑；5～40份光聚合單體；1～30份溶劑；0.05～5份光吸收劑；0.1～5份助劑。
5、所述光吸收劑為藍(lán)光吸收劑。
6、所述藍(lán)光吸收劑為式1化合物或式2化合物或式1化合物和式2化合物的混合物，所述式1化合物為：
7、
8、所述式2化合物為：
9、
10、其中,所述r1、r2為h、直鏈或支鏈c1-c6烷基、or3、或n(r3)2；所述r3為h、直鏈或支鏈c1-c6烷基；所述r4-r6為h、直鏈或支鏈或c1-c6烷基,所述r7-r8為coor9、conr10r11、cor12或cn；r9為h、直鏈、支鏈的c1-c18烷基或聚乙二醇基；r10-r12為自h、直鏈或支鏈的c1-c6烷基或苯基。
11、所述光吸收劑為紫光吸收劑，按重量份數(shù)，所述紫外光吸收劑的份數(shù)為0.1～5份。
12、所述紫光吸收劑為苯并三唑及其衍生物，且所述苯并三唑及其衍生物可為單分子結(jié)構(gòu)或多分子重復(fù)結(jié)構(gòu)或存在于聚合物結(jié)構(gòu)上；較佳的，所述苯并三唑及其衍生物為式3化合物:
13、
14、其中，所述r1為h、直鏈或支鏈c1-c12烷基、含氫氧基(oh,or,r＝c1-c12)或氨基(-nh2,nhr,nr2,r＝c1-c12)基團(tuán)中的一種或多種的混合物；
15、當(dāng)所述苯并三唑及其衍生物為單分子結(jié)構(gòu)時(shí)，其為式4化合物：
16、
17、當(dāng)所述苯并三唑及其衍生物為多分子重復(fù)結(jié)構(gòu)時(shí)，其為式5化合物：
18、
19、當(dāng)所述苯并三唑及其衍生物存在于聚合物結(jié)構(gòu)上，其為式6化合物：
20、
21、一種制備上述感光性組合物的方法，所述制備方法包括以下步驟：
22、s1、將所述感光樹(shù)脂、光聚合單體、溶劑、助劑混合均勻；
23、s2、將所述光吸收劑與光引發(fā)劑加入，再一起混合均勻；
24、s3、去除混合物里的氣泡。
25、一種電池片的制作方法，包括以下步驟：
26、s1、在電池片的種子層上涂覆如上述感光性組合物而形成掩膜層；
27、s2、固化所述掩膜層；
28、s3、對(duì)固化后的掩膜層進(jìn)行曝光；
29、s4、對(duì)曝光后的掩膜層進(jìn)行顯影而制得電鍍凹槽；
30、s5、在所述電鍍凹槽內(nèi)進(jìn)行電鍍，制得金屬柵線(xiàn)；
31、s6、去除掩膜層。
32、所述掩膜層的厚度為3-25微米。
33、當(dāng)所述光吸收劑為藍(lán)光吸收劑時(shí)，采用405nm的光源對(duì)固化后的掩膜層進(jìn)行曝光；或，當(dāng)所述光吸收劑為紫光吸收劑時(shí)，采用365nm的光源對(duì)固化后的掩膜層進(jìn)行曝光。
34、一種電池片，其采用上述方法制得。
35、因?yàn)楸景l(fā)明采用了上述技術(shù)方案，從而具有以下有益效果：
36、1、在電池片的種子層上涂覆如所述感光性組合物而形成掩膜層，從而在曝光時(shí)，所述感光性組合物能很好地吸收光并與光反應(yīng)，從而大大降低種子層的光反射，如此，顯影后制得的電池片上的電鍍凹槽為上窄下寬的結(jié)構(gòu)，進(jìn)而電鍍后的金屬柵線(xiàn)也為相應(yīng)的上窄下寬的結(jié)構(gòu)，這種結(jié)構(gòu)的金屬柵線(xiàn)與種子層的附著力強(qiáng)，不易自種子層上脫離，從而大大提高了電池片的性能；
37、2、所述掩膜層的厚度為3-25微米，曝光時(shí)，能使得研磨層目標(biāo)曝光部分均能很好地吸收光，不會(huì)出現(xiàn)因?yàn)檠心舆^(guò)厚而使得掩膜層靠近種子層的部分不能吸收足夠的光的情況，從而避免該部分顯影時(shí)不能與顯影溶液很好地反應(yīng)而導(dǎo)致該部分的種子層不能完全露出的問(wèn)題，進(jìn)而避免沒(méi)法電鍍件數(shù)柵線(xiàn)的問(wèn)題；也不會(huì)出現(xiàn)掩膜層過(guò)薄不能吸收足夠的光而導(dǎo)致很多光穿透掩膜層而被銅金屬種子層反射的問(wèn)題；即是說(shuō)，掩膜層設(shè)置成該厚度，能保證曝光后電鍍凹槽達(dá)到預(yù)期的上窄下寬的形狀，進(jìn)而保證電鍍得到的金屬柵線(xiàn)也能成為預(yù)期的上窄下寬的形狀。
1.一種感光性組合物，其特征在于：包括光吸收劑。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的感光性組合物，其特征在于：按重量份數(shù)，所述感光性組合物包括：5～75份感光樹(shù)脂；0.1～10份光引發(fā)劑；5～40份光聚合單體；1～30份溶劑；0.05～5份光吸收劑；0.1～5份助劑。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的感光性組合物，其特征在于：所述光吸收劑為藍(lán)光吸收劑；較佳的，所述藍(lán)光吸收劑為式1化合物或式2化合物或式1化合物和式2化合物的混合物，所述式1化合物為：
4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的感光性組合物，其特征在于：所述光吸收劑為紫光吸收劑，按重量份數(shù)，所述紫外光吸收劑的份數(shù)為0.1～5份。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的感光性組合物，其特征在于：所述紫光吸收劑為苯并三唑及其衍生物，且所述苯并三唑及其衍生物可為單分子結(jié)構(gòu)或多分子重復(fù)結(jié)構(gòu)或存在于聚合物結(jié)構(gòu)上；較佳的，所述苯并三唑及其衍生物為式3化合物:
6.一種制備如權(quán)利要求2至5任一項(xiàng)所述的感光性組合物的方法，其特征在于：所述制備方法包括以下步驟：
7.如權(quán)利要求1-6任一項(xiàng)所述的感光性組合物在亮面底材上的應(yīng)用。
8.一種電池片的制作方法，其特征在于：包括以下步驟：
9.根據(jù)權(quán)利要求10所述的電池片的制作方法，其特征在于：所述掩膜層的厚度為3-25微米；較佳的，當(dāng)所述光吸收劑為藍(lán)光吸收劑時(shí)，采用405nm的光源對(duì)固化后的掩膜層進(jìn)行曝光；或，當(dāng)所述光吸收劑為紫光吸收劑時(shí)，采用365nm的光源對(duì)固化后的掩膜層進(jìn)行曝光。
10.一種電池片，其特征在于：其采用如權(quán)利要求8或9所述的方法制得。